Лазерный мир

Китай продвигает разработку новых литографических машин для производства микросхем, стремясь снизить зависимость от зарубежных технологий на фоне санкций США. Эти машины демонстрируют заметные технологические улучшения: одна обеспечивает разрешение ниже 65 нм и точность наложения слоев менее 8 нм, другая — 110 нм и 25 нм соответственно. Однако они по-прежнему уступают литографам лидеров отрасли, таких как ASML, чья наименее продвинутая машина имеет разрешение 38 нм и точность наложения 1,3 нм.

Обе машины относятся к категории литографических установок глубокого ультрафиолета (DUV) и используют лазеры на фториде аргона. Первая работает на длине волны 193 нм, обеспечивая разрешение ниже 65 нм и точность наложения слоев менее 8 нм. Вторая — на длине волны 248 нм, с разрешением 110 нм и точностью наложения 25 нм.

Лучшим китайским литографическим станком считается SSX600 от Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE). Он может производить чипы по 90-нм технологическому процессу. Таким образом, одна из новых DUV-машин лучше SSX600, а другая хуже. Однако обе значительно уступают NXT: 1980Fi от ASML и NSR-S636E от Nikon. Наименее продвинутая DUV-машина ASML имеет разрешение ниже 38 нм и точность наложения всего 1,3 нм. Лучший инструмент Nikon также имеет разрешение 38 нм и точность наложения 2,1 нм.

Новые системы еще не готовы к коммерческой эксплуатации. Министерство промышленности и информационных технологий Китая не назвало конкретных компаний-разработчиков.

Китай давно стремится к технологическому суверенитету, особенно в области критически важных полупроводниковых технологий, но он все еще сильно зависит от оборудования ASML. ASML необходимо получить экспортную лицензию от правительства Нидерландов, чтобы продавать свои передовые DUV-машины. По сути, это означает, что китайские компании не могут получить эти машины. Напряженность в торговых отношениях между США и Китаем привела к введению различных ограничений на экспорт технологий в Китай. США активно призывает своих союзников присоединяться к этим ограничениям.

Государственная компания SMEE рассматривается как основной претендент на создание отечественных литографических систем. Однако SMEE тоже отстает от ASML и других мировых лидеров в этой области. В прошлом году компания продемонстрировала литограф, способный производить чипы по 28-нм технологическому процессу, но массовое производство этого оборудования еще не налажено.

В марте 2023 года SMEE подала патент на технологию EUV-литографии. Это свидетельствует о достижении определенных успехов, даже в условиях международных санкций и торговых ограничений.

Источник: https://hightech.plus/2024/09/17/kitai-razrabotal-sobstvennii-litograf-dlya-proizvodstva-chipov-65-nm